通常我们所说的光刻机的纳米级别就是指的分别率。

其实，所谓的分辨率有点像照片的像素。

照片是由很多个小的色块组合而成的，这个色块的尺寸越小，那么照片的像素就会越高。

光刻机的分辨率就是类似色块的最小尺寸，只不过他是以3D的形式，表现在芯片基板上面。

分辨率越小，那么说明光刻机越先进。

通常所说的光刻机上突破的尺寸，就是指这个分辨率。

在光刻机中，分辨率又跟一个公式有关，即瑞利公式。

分辨率与镜头的数值孔径成反比，与光源的波长成反比。

数值孔径其实类似于我们的视线范围。

理论上，这个范围应该是360度才好。

不过，因为光刻机要求光刻时的光源参数必须保持一致，因而，这个范围其实是受限的。

并不能做得特别大。

光源的波长则很好理解。

陈亚之知道，这个时候极紫外光源还没有能够研发出来，而且也不是短期内可以做到的。

因此，可以将极紫外光源纳入研究范畴，当前最要紧的则是研究浸液式光刻机。

所谓浸液式光刻机就是在光源和掩模之间增加一层光学液体，通过光的折射特性来增加数值孔径，以大到分辨率的降低效果。

陈亚之道：“卢教授，不知道你对浸液式光刻机的研究得怎么样？”

卢光南推了推眼镜道：“这个我们之前做过研究，不过因为经费短缺的原因，后来被搁置了。

如果我们现在发展浸液式光刻机的话，我想我们可以在一年半到两年的时间内，能够研发出来。”

陈亚之道：“好，那我们就先这么定下来，先全力研发浸液式光刻机，早日实现58纳米的突破。

同时，我们也要开始极紫外线的光刻机研究。”

卢光南并没有明显的激动，反而慢条斯理道：“陈总，如果这么做的话，我担心我们的经费...”

这个老人已经被钱给整怕了。

他前半辈子一直因为没有得到充足的经费，导致自己倡导的道路没有能够走下去。

现在陈亚之提出了，不仅要抓紧研制浸液式光刻机，还同时要进行极紫外线光刻机的研究。

这其实有点左右手互搏的意思。

理论上，很多人都认为极紫外线是不可能研发成功的，转而认为光刻机的未来是浸液式光刻机。

陈亚之因为有前世的记忆，知道浸液式光刻机终将被淘汰，未来将会是极紫外线光刻机（EUV）的天下。

不过，为了能够在短期内实现国产光刻机满足汽车行业的需求，他才会这样左右手互搏。

既做浸液式光刻机，又研发极紫外线光刻机。

陈亚之道：“卢教授，钱不是问题，我就怕钱解决不了的问题。

不过，我想咱们上个世纪连原子弹都能搞出来，这个世纪不可能搞不定一个光刻机。”

卢光南还是忧心忡忡道：“咱们国内的产业实在是太薄弱了，前期如果没有万亿级别的投资，很难会成长起来的。”

陈亚之道：“我们现在不是有了半导体产业园了吗？

现在这个园内百分之八十的都是半导体行业相关的公司，没什么可怕的。

咱们戮力同心，一定可以成长壮大起来。”

杨小宝这时候道：“陈总，我现在倒是有一个担心的点。

就是我们现在给了这些企业这么大的优惠政策，就怕他们挂羊头卖狗肉，明着是做半导体，实则是浑水摸鱼，骗钱的。”

陈亚之沉吟了半晌，心说，这的确是一个问题。

随即又坚定道：“魔都微电子和芯火国际已经占据了这边的半壁江山，剩下的哪怕有一成的企业愿意真心做半导体行业，那也是值得的。”

众人都是点了点头。

陈亚之最后还是不忘记给大家打鸡血，道：“别怕，这世界上就没有钱解决不了的事情。

而我，有的是钱。”

PS：光刻机的科普，因为前面涉及得太少了。

这一章写得有点太粗浅了。

不过大家应该能够看得懂的。

另外文章里提到的分辨率，其实是有两个分辨率的，一个是工艺周期，一个是图形分辨率。

工艺周期一般不是什么难点。

所以，文章只说了一个图形分辨率。

有兴趣的同学，可以看一本小册子，叫《集成电路与光刻机》，里面内容非常浅显易懂。

看完了，也就知道了光刻机的基本原理。

咱们国内目前光刻机研发困难，主要是因为产业链没有形成。

有些东西，其他应用很小，就是光刻机上用。

比如汞灯光源。

因此，整个盘子小，碎片化的就没人做。

文中，想凭一己之力，打造整个产业链是有点天方夜谭了。

不过，书写到这一步，也就只能强行开挂了。

后面主角会拼命赚钱倒贴汽车和半导体。

开快车，没有办法的事情。
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